[20a-B204-1~11] 6.3 Oxide electronics

△ [20a-B204-9] Growth and Characterization of α-Fe₂O₃ Photoelectrode via Mist Chemical Vapor Deposition

〇(DC)Kazuki Shimazoe¹, Hiroyuki Nishinaka¹, Yoko Taniguchi¹, Kazutaka Kanegae¹, Masahiro Yoshimoto¹ (1.Kyoto Inst. Tech.)

Keywords:Iron Oxide, ITO, Mist CVD

人工光合成向け光電極材料として広く研究されている酸化鉄(α-Fe₂O₃)は面方位によってその特性に異方性があることが報告されている。異方性の評価方法の１つとしてエピタキシャル薄膜を用いた方法があり、本研究では新たな下地電極としてα-Fe₂O₃と同じ構造の酸化インジウム錫(rh-ITO)を提案する。c、a、m、r面配向したrh-ITO及びα-Fe₂O₃をエピタキシャル成長させその評価を行った。