[20a-C106-1~9] 12.1 Fabrications and Structure Controls

[20a-C106-3] Visible light responsive photocatalysis of g-C₃N₄ films prepared by thermal chemical vapor deposition

〇Hayato Goto¹, Ryosuke Ikkatai¹, Kei Noda¹ (1.Keio Univ.)

Keywords:Organic Molecular Semiconductor, thermal chemical vapor deposition, photocatalysis

二次元窒化炭素（g-C₃N₄）はそのバンドギャップが約 2.7 eVの高分子半導体に分類される。また、可視光応答性をもつメタルフリーな有機光触媒材料として盛んに研究されている。本発表では、熱化学気相成⻑によりシリコン基板上に g-C₃N₄ 薄膜を合成した後、 g-C₃N₄ 薄膜表面に白金（Pt）ナノ粒子を担持させた g-C₃N₄/Pt を作製し、両試料に対し可視光照射（波長 385~740 nm）によるメチレンブルー分解速度測定によって光触媒活性の評価を行ったので、報告する。