2022年第83回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

21 合同セッションK「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」 » 21.1 合同セッションK 「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」

[20p-B203-1~22] 21.1 合同セッションK 「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」

2022年9月20日(火) 13:00 〜 19:00 B203 (B203)

尾沼 猛儀(工学院大)、西中 浩之(京都工繊大)

15:00 〜 15:15

[20p-B203-8] β-Ga2O3基板上の金属パターンをマスクとした裏面露光リソグラフィ

大島 孝仁1 (1.物材研)

キーワード:Ga2O3、裏面露光リソグラフィ

本研究では、g, h, i線全てに対して透過性の高いβ-Ga2O3基板に対して、表面の金属パターンをマスクとして、裏面露光リソグラフィの検証実験を行った。