2022年第83回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.3 酸化物エレクトロニクス

[20p-B204-1~13] 6.3 酸化物エレクトロニクス

2022年9月20日(火) 13:30 〜 17:00 B204 (B204)

神吉 輝夫(阪大)

14:00 〜 14:15

[20p-B204-3] 分子線エピタキシー法による高品質Sr3Ru2O7薄膜の作製と評価

〇(M1)大城 蓮1、西早 辰一1、藤田 貴啓2、川﨑 雅司2,3、打田 正輝1 (1.東工大理、2.東大工、3.理研CEMS)

キーワード:薄膜、分子線エピタキシー、電子ネマティック

Ruddlesden-Popperペロブスカイト型ルテニウム酸化物Srn+1RunO3n+1は多彩な電子相を示す。Sr2RuO4及びSrRuO3はそれらに特徴的な電子相を示す高品質薄膜の作製が報告されている一方で、Sr3Ru2O7については未だ報告がない。本研究では、電子ビーム加熱を用いた酸化物分子線エピタキシー法により、高品質Sr3Ru2O7薄膜を作製するための条件を調べ、輸送特性を評価した。