[20p-C206-1~8] 15.1 Bulk crystal growth

△ [20p-C206-7] Development of Novel High Resistivity Ruthenium-Based Alloy Wire for OLED Deposition

〇rikito murakami^1,2, Kei Kamada^2,3, Kenichi Umetsu⁴, Shiika Itoi², Hiroaki Yamaguchi², Takashi Yoshioka⁶, Katsunari Oikawa⁵, Junji Kido⁴, Akira Yoshikawa^1,2,3 (1.Tohoku Univ. IMR, 2.C&A Corp., 3.Tohoku Univ. NICHe, 4.Yamagata Univ. Eng., 5.Tohoku Univ. Eng., 6.Sunric Co., Ltd.)

Keywords:Resistive heating wire, Alloy-micro-pulling-down method, Vapor deposition

有機エレクトロルミネッセンス（EL）薄膜の成膜に用いられる蒸着セルには、Ta線が一般に用いられるが、電気抵抗率の低さとその温度依存性が高いことによる温度制御性の低さが課題であった。本研究では、合金用マイクロ引下げ法（μ-PD）法によってRu-Mo-W合金線材を育成し、抵抗加熱線として、従来のTa線に比べ高い加熱効率と加熱制御性、高温耐久を示すことを実証した。