[21a-A205-1~10] 3.14 Silicon photonics and integrated photonics (formerly 3.15)

[21a-A205-4] Formation of Si/SiO2 high-mesa waveguides with integrated nano-pixel structures

〇Yuta Shimamura¹, Ryota Kuwahata¹, Kansei Yamauchi¹, Tabei Tetsuo², Haison Jiang¹, Kiichi Hamamoto¹ (1.Kyushu Univ., 2.Hiroshima Univ.)

Keywords:High-mesa waveguide, Dry-etching

日常的な健康モニタリングシステムとして、小型呼気センシングシステムを実現する光集積回路を研究開発している。ナノピクセル構造を用いた非対称分岐とセンシング導波路としてSi/SiO₂ハイメサ導波路の集積を検討している。導波路形成のためにエッチング条件の検討を行い、ナノピクセル構造と集積したハイメサ導波路の形成を行ったのでこれを報告する。