2022年第83回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

17 ナノカーボン » 17.3 層状物質

[21a-C202-1~12] 17.3 層状物質

2022年9月21日(水) 09:00 〜 12:00 C202 (C202)

渡辺 健太郎(信州大)

11:45 〜 12:00

[21a-C202-12] 微結晶MoS2膜への硫黄雰囲気アニールによる結晶性向上

小野 凌1、今井 慎也1、宗田 伊理也1、角嶋 邦之1、筒井 一生1、若林 整1 (1.東工大工)

キーワード:スパッタリング、遷移金属ダイカルコゲナイド、結晶性

2次元半導体の1つであるMoS2は、原子レベルの膜厚において高い移動度を実現できることから、ナノシートトランジスタのチャネル材料として期待されている。MoS2膜の結晶性向上のために様々な取り組みが行われている中で、本研究では、MoS2微結晶をスパッタ堆積後に、硫黄雰囲気中でアニール処理(SVA)を行うことに着目した。ラマン分光法により、結晶性の高いMoS2サンプルにSVAを施すよりも高い結晶性を得ることに成功したため報告する。