[21p-A101-1~16] 3.10 Photonic structures and phenomena (formerly 3.11)

△ [21p-A101-3] Valley photonic crystal waveguides fabricated with CMOS-compatible process

〇Takuto Yamaguchi^1,2, Hironobu Yoshimi^1,2, Miyoshi Seki³, Minoru Ohtsuka³, Nobuyuki Yokoyama³, Yasutomo Ota⁴, Makoto Okano³, Satoshi Iwamoto^1,2 (1.RCAST, The Univ. of Tokyo, 2.IIS, The Univ. of Tokyo, 3.AIST, 4.Keio Univ.)

Keywords:valley photonic crystals, silicon photonics, topological photonics

バレーフォトニック結晶導波路は急峻な曲げが存在しても高効率な光伝搬を可能とするため、光集積回路応用に適している。しかしながら、これまでに報告された本導波路構造やそれを用いた光機能デバイスはすべて、電子線リソグラフィによる作製および実証に限られていた。我々は今回、シリコンフォトニクスで用いられるCMOS互換プロセスを用い、光通信波長帯で動作可能なバレーフォトニック結晶導波路を実現した。