[21p-A101-1~16] 3.10 フォトニック構造・現象（旧3.11）

[21p-A101-4] 高輝度PCSELの高い量産性を有する作製法に関する検討

〇國師 渡^1,2、宮井 英次^1,2、De Zoysa Menaka¹、石崎 賢司¹、吉田 昌宏¹、野田 進¹ (1.京大院工、2.ローム)

キーワード：半導体レーザー、LiDAR、面発光

フォトニック結晶レーザー(PCSEL)の作製において、量産性の高いNILという工法を用いて作製をおこなった。この工程は①マスター金型作製，②レプリカ金型作製，③GaAsウェハに塗布した樹脂への転写，④残膜除去，⑤GaAsウェハへのパターン転写，という順序で実施している．これらのプロセスの調整を精密におこない， EB描画を用いた場合と同程度の精度のパターンの形成およびデバイス特性を得ることに成功した。