2022年第83回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

シンポジウム(口頭講演)

シンポジウム » ワイドバンドギャップ半導体MOS界面科学の最前線

[21p-M206-1~9] ワイドバンドギャップ半導体MOS界面科学の最前線

2022年9月21日(水) 13:30 〜 17:35 M206 (マルチメディアホール)

渡部 平司(阪大)、久本 大(日立製作所)

15:50 〜 16:20

[21p-M206-6] 計算科学で見るワイドギャップ半導体MOSFET界面

白石 賢二1、押山 淳1 (1.名大未来研)

キーワード:GaN、SiC、MOSFET界面

SiCやGaNに代表されるワイドギャップ半導体のMOSFET界面はパワーデバイスの性能に直結するため非常に大きな関心が寄せられている。しかし、Siテクノロジーで利用されるSi/SiO2界面が極めて良好であるのに対して、SiC/SiO2界面やGaN/SiO2界面は欠陥準位密度低減等未だ多くの課題が残されている。本講演ではSiC/SiO2界面とGaN/SiO2界面の特徴について計算科学の視点から議論する。