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[21p-P12-44] KFMによる+c面及び-c面GaN基板上MoS2の表面電位測定
キーワード:半導体、MoS2、二次元材料
ワイドギャップ半導体である窒化ガリウム(GaN)とMoS2を接合したヘテロ構造は、広帯域な受光素子への利用が期待され研究されているが、GaNは大きな自発分極を持つ材料としても知られており、その影響がMoS2の物性にどう表れるかは未知である。そこで、本研究では、KFM(Kelvin Force Probe Microscope)を用いて、MoS2/GaNの表面電位を計測し、担持するGaN基板の分極方向(面方位)によって、MoS2の表面電位がどのように変化するかを調べた。