[21p-P14-1~16] 2 Ionizing Radiation(Poster)

[21p-P14-10] Large-area fabrication of (CH₃NH₃)₃Bi₂I₉ films via a mist deposition method

〇Yuui Nakano¹, Mioko Kawakami¹, Takumi Ikenoue¹, Masao Miyake¹, Tetsuji Hirato¹ (1.Kyoto Univ.)

Keywords:perovskite, X-ray detector

(CH₃NH₃)₃Bi₂I₉ は、高い X 線吸収係数と優れた電荷移動特性を有することから次世代の X 線撮像素子の検出母材に適した材料として注目されている。当研究室ではこれまでにミストデポジション法を用いて膜厚 110 mm の (CH₃NH₃)₃Bi₂I₉ 厚膜の作製を報告した。しかし、撮像素子に応用可能な大面積膜の作製には至っていない。本講演ではミストデポジション法を用いた (CH₃NH₃)₃Bi₂I₉ 大面積膜の作製について報告する。