[21p-P14-1~16] 2 放射線(ポスター)

[21p-P14-10] ミストデポジション法による (CH₃NH₃)₃Bi₂I₉ 大面積膜の作製

〇中野 佑宇唯¹、川上 未央子¹、池之上 卓己¹、三宅 正男¹、平藤 哲司¹ (1.京大院エネ科)

キーワード：ペロブスカイト、X線検出器

(CH₃NH₃)₃Bi₂I₉ は、高い X 線吸収係数と優れた電荷移動特性を有することから次世代の X 線撮像素子の検出母材に適した材料として注目されている。当研究室ではこれまでにミストデポジション法を用いて膜厚 110 mm の (CH₃NH₃)₃Bi₂I₉ 厚膜の作製を報告した。しかし、撮像素子に応用可能な大面積膜の作製には至っていない。本講演ではミストデポジション法を用いた (CH₃NH₃)₃Bi₂I₉ 大面積膜の作製について報告する。