2022年第83回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(ポスター講演)

6 薄膜・表面 » 6.1 強誘電体薄膜

[21p-P15-1~6] 6.1 強誘電体薄膜

2022年9月21日(水) 16:00 〜 18:00 P15 (体育館)

16:00 〜 18:00

[21p-P15-5] Sc添加GaN薄膜の強誘電性へのSc濃度と温度の影響

上原 雅人1、水谷 涼一2、安岡 慎之介2、清水 荘雄3,4、山田 浩志1、秋山 守人1、舟窪 浩2 (1.産総研、2.東工大、3.物材機構、4.さきがけ)

キーワード:強誘電体、窒化ガリウム、薄膜

GaNにScを添加したウルツ鉱型ScxGa1-xN を作製し, その強誘電性を調査した. PUND測定の結果、ScxGa1-xN のPrはSc濃度が同じScxAl1-xN より高い傾向にあった. これは格子構造に起因すると考えられる. 一方、EcはSc濃度が同じScxAl1-xNと同等だった。 Ecが母材に関係なくSc濃度で決まることから, Sc周辺が分極反転の起点となることが示唆される.