[22a-A306-1~9] 11.4 アナログ応用および関連技術

[22a-A306-1] ナノ加工に向けたHoBa₂Cu₃O_7-δ高温超伝導薄膜の成膜条件の検討

〇鳥取 優樹¹、林 幹二¹、大谷 涼¹、有吉 誠一郎¹、田中 三郎¹ (1.豊橋技術科学大学)

キーワード：高温超伝導体、HoBCO、SQUID

本研究では、高いJ_Cと平滑な膜面を有するHoBCO薄膜が得られる成膜条件を検討した。HoBCO薄膜はPLD法によってSrTiO₃基板上に成膜した。その結果、成膜温度720 °C、アニール温度500 °Cにおいてナノメートル精度の微細加工が可能なJ_Cと膜面の平滑性を有するHoBCO薄膜が得られた。今後は、より複雑なナノメートル精度の微細加工を行えるように、現状よりさらに微小析出物密度を低減させる。