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[22a-A307-6] III-V族化合物太陽電池用オーミック電極の検討
キーワード:抵抗加熱式真空蒸着機
p-InP基板裏面へのAu/Znオーミックメタルの成膜を実証した。p-InPの表面は、電極金属を蒸着する前にセミコクリーンまたはバッファードフッ酸(BHF)で処理した。抵抗加熱式真空蒸着法により、p-InP基板の表面にAu/Zn金属を蒸着した。その後、350-450℃の温度でアニールを行った。TLM法により接触抵抗を評価した。その結果、BHF処理と450℃のアニールを行った試料で、最も低い接触抵抗3.3×10-5 Ωcm2が得られた。BHF処理はセミコクリーンよりもAu/Znオーミックメタルの接触抵抗の低減に有効であることがわかった。