[22a-A404-3~8] CS.8 6.5 表面物理・真空、7.6 原子・分子線およびビーム関連新技術のコードシェア

△ [22a-A404-6] 極低濃度HF水溶液を用いて作製したSi陽極酸化膜の原子結合状態

〇(M1)新井 太貴¹、喬 楊木易¹、鈴木 俊明¹、吉越 章隆²、丹羽 雅昭¹、本橋 光也¹ (1.東京電機大工、2.原子力機構物質科学研究センター)

キーワード：Si酸化膜、陽極酸化、Si-O

Si酸化膜はp形の単結晶Si基板表面を極低濃度HF水溶液を用いて陽極酸化することにより作製した。この作製されたSi酸化膜のXPSによるSi2p軌道のスペクトルからはSiO₂以外にSiFと思われるピークが見られた。また、深さ分析の結果から僅かppmオーダーのHFで2~3 at.%のFが膜中に入ることがわかった。これらのことからFが通常の結合様式ではない可能性がある。