2022年第83回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

17 ナノカーボン » 17.3 層状物質

[22a-B202-1~11] 17.3 層状物質

2022年9月22日(木) 09:00 〜 12:00 B202 (B202)

浦上 法之(信州大)

11:45 〜 12:00

[22a-B202-11] p型二硫化モリブデンTFTのアニール処理による特性改善

荒井 大地1、清水 耕作1 (1.日本大生産工)

キーワード:硫化モリブデン、薄膜トランジスタ、スパッタリング

本来単結晶の硫化モリブデンはn型半導体であるが、スパ硫化モリブデン薄膜は単結晶ではn型半導体であるが、スパッタリング法で作製したMoS2はp型半導体の特性を示すことが知られている。先行研究より200℃アニールで最大の移動度を示した。今回p型になった原因をラマン分光を用いて結晶の変化を調べた。