2022年第83回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.7 化合物及びパワーデバイス・プロセス技術・評価

[22a-B204-1~11] 13.7 化合物及びパワーデバイス・プロセス技術・評価

2022年9月22日(木) 09:00 〜 12:00 B204 (B204)

染谷 満(産総研)、細井 卓治(関学大)

09:45 〜 10:00

[22a-B204-4] 高濃度Pイオン注入SiC上ショットキー障壁におけるトラップアシストトンネル電流の解析

原 征大1、金子 光顕1、木本 恒暢1 (1.京大院工)

キーワード:SiC、イオン注入、ショットキー障壁ダイオード