[22a-P04-1~14] 8 Plasma Electronics(Poster)

[22a-P04-1] Multi-banded design and Frequency characteristic diagnosis by metamaterial structure of serial resonance model

〇(M1)Yohei Sanami¹, Takuya Mizutomi¹, Shigeyuki Miyagi¹, Osamu Sakai¹ (1.The Shiga Pref Univ.)

Keywords:metamaterial, plasma, VHF band

半導体製造におけるプラズマ源においてはマイクロ波電力や高周波電力でプラズマ生成が行われている 。これらの周波数のうち例えば UHF帯 (数 100 MHz)では電子が放電空間に捕獲され、プラズマ生成が高効率化する。一方、我々のグループではメタマテリアルを用いたマイクロ波プラズマの高密度化に成功している。本研究では、UHF帯～VHF帯 (数 10 MHz)にて、プラズマ生成に対するメタマテリアル効果を検討している。