[22a-P04-1~14] 8 プラズマエレクトロニクス(ポスター)

[22a-P04-10] InN 薄膜の EC 耐久性に対する大気プラズマ照射の影響

〇渡部 陽葵¹、宮坂 慶太²、井上 泰志^1,2、高井 治³ (1.千葉工大工、2.千葉工大院工、3.関東学院大材料表面研)

キーワード：反応性蒸着、斜入射堆積法、エレクトロクロミック

低温でも酸化反応を促進可能な大気プラズマを利用し，InN薄膜のEC耐久性に対する大気プラズマ照射効果について調査することを目的とする．InN膜の成膜について，基板はITOコートガラスを用い，活性窒素源支援蒸着法を用いた．坩堝からのIn蒸発流束に対して85度になるように設置することで，ナノオーダの空隙で互いに隔絶された柱状構造を形成した．結果として大気圧プラズマを長時間照射することにより，EC耐久性が向上した．