[22a-P04-1~14] 8 プラズマエレクトロニクス(ポスター)

[22a-P04-12] 沿面放電型遺伝子導入法による大量一括処理

〇黒木 悠汰¹、佐藤 晋^1,2、池田 善久¹、本村 英樹¹、木戸 祐吾³、神野 雅文^1,2 (1.愛媛大学、2.アイジーン、3.パール工業)

キーワード：プラズマ遺伝子導入、沿面放電

著者らは、遺伝子治療などの先端利用での利用を目指して、プラズマ処理によって多くの細胞に遺伝子を導入できる「沿面放電法（Surface Discharge method: SD法）」の研究を行っている。我々は既に、SD法により、3.5 cmシャーレで一度に60万個の細胞に対して高い導入効率で導入する技術を確立している。
本研究では、SD法の導入面積を拡大して一度に処理できる細胞の数をさらに増やすために、電極配置の最適化を図り、導入面積の拡大を試みたので報告する。