[22a-P04-1~14] 8 Plasma Electronics(Poster)

[22a-P04-6] Numerical Analysis of Ventilation Gas Composition in Low-Pressure Ar/CH₄ Plasmas

〇Shun Sasaki¹, Hiroyuki Kousaka², Akinori Oda¹ (1.Chiba Inst. Technol., 2.Gihu Univ.)

Keywords:low-temperature plasma, low-pressure plasma, ventilation gas

CO₂やCH₄等に代表される温室効果ガスは地球温暖化の形で環境に悪影響を与えるため，削減に向けた取り組みが行われている．半導体製造プロセスにおいては，プラズマプロセスが全体の70-80％を占めており，これらプラズマプロセスで生じた排ガスの抑制や有効利用などを検討することが必要である．本研究では，DLC成膜を目的としたAr/CH₄低圧RFプラズマを対象に，本プラズマ中で生成された様々なガスの排気量や組成に着目した解析を行った．