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一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.4 薄膜新材料

[22p-C202-1~12] 6.4 薄膜新材料

2022年9月22日(木) 13:00 〜 16:15 C202 (C202)

西川博昭(近畿大)、松本祐司(東北大)

14:00 〜 14:15

△ [22p-C202-5] p-CuI:Zn/n-ZnOヘテロ接合の形成とダイオード特性評価

〇小林海斗¹、矢田舜一郎¹、山田直臣¹ (1.中部大院工)

キーワード：ダイオード、CuI、ヘテロ接合