[22p-C202-1~12] 6.4 薄膜新材料

△ [22p-C202-9] 複合成膜手法により作成されたTiO₂薄膜におけるスパッタリングの影響

〇(M1)遠藤 孝祐¹、室谷 裕志¹、松平 学幸² (1.東海大院工、2.(株)シンクロン)

キーワード：光学薄膜、酸化チタン

本研究室ではEB蒸着法とDCパルススパッタリング法を同一真空容器内に設置して同時に作動させる複合成膜手法を開発した。先行研究において本手法でSiO₂, MgF₂, Al₂O₃光学薄膜の低屈折率化に成功しているが、結晶性を持つ薄膜の方が低屈折率化がしにくい可能性が示唆された。これを検討するために非晶質膜にも結晶質膜にもなりうるTiO₂を本手法で成膜したい。その基礎研究として本手法においてスパッタリングがTiO₂薄膜にもたらす影響を検討した。