[22p-C205-1~15] CS.1 Code-sharing Session of 2.3 & 7.5

△ [22p-C205-14] Low-temperature growth of Au nanowires by thermal evaporation of Au on a substrate with sputter-deposited Si

〇Hitomi Mizutani¹, Shunya Yamamoto², Katsumi Takahiro¹ (1.Kyoto Inst. Tech., 2.QST Takasaki)

Keywords:nanowire, ion beam, sputter-deposition

我々は、低速Ar⁺照射したSi基板へのAu蒸着により、照射領域内の酸化／非酸化の境界領域のみにおけるAuナノワイヤ（NW）成長を見出した。これまでの研究から、イオン照射による結晶Siの非晶質化、Au蒸着時のAu-Si合金形成、非晶質Siの再結晶化を経て、NWsが成長すると考えられる。本研究では、NW成長の開始となる非晶質Siの必要性を確認するため、スパッタ蒸着で非晶質Siを数種類の基板に堆積させた後、Au蒸着を行うことで、NW作製を試みた。