2022年第83回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.2 カーボン系薄膜

[23a-A202-1~10] 6.2 カーボン系薄膜

2022年9月23日(金) 09:00 〜 11:30 A202 (A202)

重川 直輝(大阪市立大)、稲葉 優文(九大)

10:00 〜 10:15

[23a-A202-5] C-Si-O側壁チャネルによる縦型ダイヤモンドMOSFET のノーマリーオフ動作

〇(B)成田 憲人1、太田 康介1、付 裕1、若林 千幸1、平岩 篤1、川原田 洋1,2 (1.早大理工、2.早大材研)

キーワード:ダイヤモンド、MOSFET、縦型

本研究では酸化Si終端ダイヤモンド(C-Si-O)チャネルを用いた縦型ダイヤモンドMOSFETを作製し、閾値電圧(Vth): -10.2 V, 最大ドレイン電流密度(ID): 8.05 mA/mmが得られ、縦型ダイヤモンドFETにおいて初のノーマリーオフ動作を達成した。また、Vth: -1.9 V, ID: 102 mA/mmと高い電流密度でのノーマリーオフ動作デバイスも得られた。