2022年第83回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(ポスター講演)

21 合同セッションK「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」 » 21 合同セッションK「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」(ポスター)

[23a-P06-1~28] 21 合同セッションK「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」(ポスター)

2022年9月23日(金) 09:30 〜 11:30 P06 (体育館)

09:30 〜 11:30

[23a-P06-23] 水系前駆体溶液とエキシマ光を用いた酸化インジウム薄膜の低温形成と薄膜トランジスタの特性評価

駒井 伯成1、大浦 紀頼1、和田 英男1、小山 政俊1、佐々 誠彦1、前元 利彦1、竹添 法隆2、清水 昭宏2、伊藤 寛泰2 (1.大阪工業大学、2.ウシオ電機株式会社)

キーワード:酸化インジウム、薄膜トランジスタ、紫外線

我々は酸化物薄膜の溶液プロセスに関する研究を進めており,紫外線のひとつであるエキシマ光(波長172 nm)を照射することにより,結合エネルギーが695 kJ/mol以下の分子を容易に切断できることに着目した.今回,水系の前駆体溶液を出発原料としてエキシマ光を用いて200 ℃以下のプロセスでIn2O3薄膜を形成し,構造解析および薄膜トランジスタ特性を評価したのでそれらの結果について報告する.