[23p-A101-1~13] 3.11 ナノ領域光科学･近接場光学（旧3.12）

△ [23p-A101-5] 分子リソグラフィー法を利用したナノギャップデバイスによる表面増強ラマン散乱素子の開発

〇(M1)細井 李香¹、加藤 祐基¹、鵜飼 智文²、黒須 俊治²、花尻 達郎²、前川 透²、根岸 良太^1,2 (1.東洋大、2.バイオナノセンター)

キーワード：表面増強ラマン散乱、ナノギャップ

ナノスケールのギャップを有する金微粒子のダイマー構造へレーザー光を照射すると、ダイマー間の急激な電場勾配と局所表面プラズモンとの相互作用により、単一分子レベルのラマンスペクトルを得ることができる。そこで本研究では、ナノスケールでギャップ幅をサイズ制御できる分子リソグラフィー法によりナノギャップアレイ素子を作製し、ラマンスペクトルにおけるホットスポット効果について検討したので報告する。