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[23p-A105-6] フレキシブル基板マイクロニードル電極による低組織損傷ニューロン計測
キーワード:低侵襲、神経電極、VLS結晶成長
本研究では,直径5 µmのSiマイクロニードルをフレキシブル基板上に集積した電極デバイスによる埋め込み多チャンネル計測および組織損傷の評価を行っている。電極デバイスは,4極のマイクロニードルをVLS法によりパリレンフィルム上に形成することで製作した。マウスを用いた慢性計測では,大脳皮質の第一次視覚野からのニューロン応答を5か月に渡り計測できた。さらに,提案デバイスは従来手法と比較して有意に損傷を低減した。