2022年第83回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.2 カーボン系薄膜

[23p-A202-1~16] 6.2 カーボン系薄膜

2022年9月23日(金) 13:00 〜 17:00 A202 (A202)

小野田 忍(量研機構)、酒井 忠司(東工大)、䕃浦 泰資(産総研)

13:15 〜 13:30

[23p-A202-2] NV量子センサ高感度化のためのtert-butylphosphineを用いたn型ダイヤモンド合成

〇(M2)川瀬 凜久1、川島 宏幸1,2、加藤 宙光2、徳田 規夫3、窪田 幹大1、小倉 政彦2、牧野 俊晴2、水落 憲和1,4 (1.京大化研、2.産総研、3.金沢大、4.京大CSRN)

キーワード:ダイヤモンド、NV中心、n型

従来、CVD法によるダイヤモンドへのリンドーピングでは、毒性及び爆発性が高いホスフィンが用いられてきた。本研究ではホスフィンと比較して格段に爆発性・毒性が低いターシャリーブチルホスフィンを用いてn型ダイヤモンドをCVD法で合成し、ホスフィンを用いた場合に匹敵する長時間T2・n型伝導性・NV中心の完全な配向性といった特性が得られることを確認した。