The 83rd JSAP Autumn Meeting 2022

Presentation information

Oral presentation

8 Plasma Electronics » 8.3 Plasma nanotechnology

[23p-B102-1~8] 8.3 Plasma nanotechnology

Fri. Sep 23, 2022 1:30 PM - 3:45 PM B102 (B102)

Takeshi Kitajima(National Defence Academy), Tsuyohito Ito(Univ. of Tokyo)

3:00 PM - 3:15 PM

[23p-B102-6] Measurement of strengths and fluctuations of electric fields in Ar plasma using a fine particle trapped by optical tweezers (2)

KUNIHIRO KAMATAKI1, Toma Sato1, Kentaro Tomita2, Pan Yiming3, Daisuke Yamashita1, Naoto Yamashita1, Takamasa Okumura1, Naho Itagaki1, Kazunori Koga1,4, Masaharu Shiratani1 (1.Kyushu Univ. ISEE., 2.Hokkaido Univ., 3.Kyushu Univ. IGSES., 4.NINS)

Keywords:electric field measurement, optical tweezers, a fine partice

半導体デバイスの3次元集積化に伴い, プラズマプロセスの深い理解に基づいた超高精度ナノプロセスの創成が求められている.このためには,プラズマプロセス中のマイクロ・ナノメールオーダーの微小空間での電場空間分布の解明とその揺動成分の制御が重要である.そこで, 本研究では, 光ピンセット法により補足されたプラズマ中の微粒子をプローブとして, マイクロメートルオーダーの高い空間分解能を持つ電場強度及びその揺動成分の計測の開発を行なっている.