一般セッション(口頭講演)
6 薄膜・表面 » 6.4 薄膜新材料
09:15 〜 09:30
〇徐 若暉1、小松 啓志1、中村 淳1,2、伊藤 治2、齋藤 秀俊1 (1.長岡技術科学大学、2.中部キレスト)
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09:30 〜 09:45
〇FAN YUKUN1、小松 啓志1、齋藤 秀俊1 (1.長岡技大)
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09:45 〜 10:00
宮本 黎美1、西山 昭雄2、吉川 亮太2、田口 純志2、〇小松 啓志1、齊藤 信雄1、齋藤 秀俊1 (1.長岡技科大、2.野村鍍金)
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10:00 〜 10:15
〇水越 光司1,2、山村 剛史3、冨岡 泰宏3、川村 みどり1 (1.北見工大、2.YKK AP、3.YKK)
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10:30 〜 10:45
〇(B)梅田 佳孝1、小野 広喜1、山本 航平3、石山 修3、横山 利彦3、水口 将輝1,2、宮町 俊生1,2 (1.名大工、2.名大未来研、3.分子研)
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10:45 〜 11:00
〇新山 浩司1、尹 友1 (1.群馬大工)
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11:00 〜 11:15
〇戸田 恭輔1、小西 直磨1、内藤 貫太1、奥谷 昌之1 (1.静岡大院工)
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11:15 〜 11:30
〇村本 太一1、橋本 聖1、山田 孟史2、楠 正暢2 (1.近畿大学院生物理工、2.近畿大学生物理工)
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