一般セッション(口頭講演)
3 光・フォトニクス » 3.5 レーザー装置・材料
10:00 〜 10:15
〇鈴木 杏奈1,2、Kränkel Christian3、戸倉川 正樹1,2 (1.電通大レーザー研、2.電通大脳医工研、3.IKZ)
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10:15 〜 10:30
〇佐藤 篤1、石井 昌憲2 (1.東北工大工、2.都立大システムデザイン)
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10:30 〜 10:45
〇石月 秀貴1,2、平等 拓範1,2 (1.理研、2.分子研)
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10:45 〜 11:00
〇上原 日和1、ヤオ ウェイチャオ1、安原 亮1 (1.自然科学研究機構 核融合科学研究所)
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11:00 〜 11:15
〇(D)Enhao Ri1、Hiyori Uehara1,2、Ryo Yasuhara1,2 (1.SOKENDAI、2.NIFS)
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11:15 〜 11:30
〇熊井 光1、上原 日和1,2、安原 亮1,2 (1.総研大、2.核融合研)
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