[22p-E105-1~18] 8.1 プラズマ生成・診断

△ [22p-E105-16] 熱電子供給型真空アーク放電の放電電流決定機構に基づくプロセス制御（Ⅱ）

〇朝本 雄也¹、松田 崇行¹、濱野 誉¹、野間 正男²、長谷川 繁彦³、山下 満⁴、占部 継一郎¹、江利口 浩二¹ (1.京大院工、2.神港精機、3.阪大産研、4.兵庫県立工技センター)

キーワード：真空アーク放電

真空アーク放電は薄膜堆積や表面改質などに広く応用されている．我々はこれまで，熱電子供給型真空アーク放電の電流値には熱電子供給律速機構と空間電荷制限による伝導律速機構が存在し，これらの律速機構が基板へのイオンフラックスに大きく影響することを明らかにした．本研究では，放電中の伝導律速機構を支配する領域を実験的に明確にし，高イオンフラックスを得るための放電制御手法を提案する．