The 69th JSAP Spring Meeting 2022

Presentation information

Oral presentation

6 Thin Films and Surfaces » 6.3 Oxide electronics

[22p-E204-1~13] 6.3 Oxide electronics

Tue. Mar 22, 2022 1:30 PM - 5:00 PM E204 (E204)

Takahisa Tanaka(Univ. Tokyo), Daichi Oka(Tohoku Univ. )

4:15 PM - 4:30 PM

[22p-E204-11] Evaluation of resistive switching characteristics of GaOx memristor

〇(M2)Kento Sato1, Yusuke Hayashi1, Tetsuya Tohei1, Akira Sakai1 (1.Osaka Univ.)

Keywords:memristor, Gallium oxide

酸化ガリウムはSiに比べおよそ4倍の広いバンドギャップをもつことから高温下での動作が期待できる。また、バルク型伝導の伝導であることから、動作が決定的であり、素子の結晶状態がアモルファスであることから基板選択の自由度も高く室温での蒸着が可能である。本研究では、Pt/GaOx/ITO/glass構造を持つキャパシタ型メモリスタデバイスを作製し、高温環境下における抵抗スイッチング動作の実現と電気伝導機構評価を目指した。