[22p-E204-1~13] 6.3 Oxide electronics

△ [22p-E204-4] Conductivity control of orientation controlled NiO epitaxial thin films by vacuum ultraviolet light irradiation

〇Kenta Kaneko¹, Hiroki Shoji¹, Tomoaki Oga¹, Satoru Kaneko^2,1, Mamoru Yoshimoto¹, Akifumi Matsuda¹ (1.Tokyo Tech, 2.KISTEC)

Keywords:Nickel oxide, vacuum ultraviolet light, epitaxial thin film

ドーパントフリーのNiOエピタキシャル薄膜に関して、Xe₂*エキシマランプを用いた真空紫外光照射が薄膜構造および物性に与える影響について検討した。NiOエピタキシャル薄膜は、NiO焼結体ターゲットを用いたPLD法によって、SrTiO₃(111), (110),(100)基板上に堆積し、XRD、AFM、RHEEDにより評価した。得られた薄膜に対して、大気中での真空紫外光照射により、顕著な導電性向上が確認された。講演では、成膜条件、結晶配向面による影響についても報告する。