[23a-D215-1~10] 11.2 薄膜，厚膜，テープ作製プロセスおよび結晶成長

[23a-D215-5] モンテカルロ法を用いたREBCO薄膜のVLS成長シミュレーション

〇一野 祐亮¹、清家 善之¹、森 竜雄¹、江原 大貴²、土屋 雄司²、吉田 隆² (1.愛工大、2.名大院工)

キーワード：REBCO超伝導体、結晶成長シミュレーション

我々はこれまで、薄膜結晶成長シミュレーションを開発し、REBa₂Cu₃O_y (REBCO)薄膜中で自己組織化するBaMO₃ (BMO)ナノロッドの成長機構を明らかにしてきた[1]。BMO添加REBCO膜については、PLD法やMOCVD法などの気相法を用いた作製報告が多くあるが、最近、我々は液相を介した薄膜結晶成長法であるVapor-Liquid-Solid (VLS)成長法を用いて、高速にREBCO厚膜を作製するプロセスについて報告した[2]。この中で、VLS成長法でBMO添加REBCOを成長させるとBMOナノロッドが成長した層と無い層が混在する微細組織が見られた[3]。この成長機構を明らかにすることを目的として、本研究ではVLS成長法の結晶成長シミュレーション開発を行った。