[23a-E102-1~8] FS.1 フォーカストセッション「AIエレクトロニクス」

[23a-E102-4] 遺伝的アルゴリズム（GA ）と プラズマシミュレーションを 組み合わせた2周波励起プラズマの RF 周波数の適正化

〇高木 茂行¹、仲江川 竜弘¹、蕭 世男²、関根 誠² (1.東京工科、2.名古屋大)

キーワード：2周波プラズマ、プラズマシミュレーション、遺伝的アルゴリズム

半導体のエッチングプロセスにおいて，加工形状コントロールのため，2周波励起プラズマが使われている。高周波側では高い電子密度が，低周波側では電圧変化で密度変動が少ないことが望まれている。上部・下部電極の周波数の適正化を行った結果，上部電極では175 MHzで電子密度が最大となり，下部電極では1～1.5 MHzで密度変化が最小となった。