[23a-E205-1~10] 10.1 新物質・新機能創成（作製・評価技術）

[23a-E205-4] Si基板上Co–Pt薄膜のL1₂規則化

〇小林 大悟¹、遠山 諒¹、山浦 淳一^2,3、真島 豊^1,2 (1.東京工業大学 フロンティア材料研究所、2.東京工業大学 元素戦略研究センター、3.KEK物質構造科学研究所)

キーワード：CoPt3、Co3Pt、L12規則化

本研究では、CoPtの組成比が1対3と3対1のCo/Pt交互多積層薄膜をSi/SiO₂基板上に作製し、アニール処理を行うことで、L1₂規則化Co–Pt薄膜の形成を試みた。アニール後の結晶構造と表面形態をそれぞれ、放射光X線を用いたすれすれ入射X線回折法 (GI-XRD; KEK BL-8B) と走査電子顕微鏡により評価したので、報告する。