[23p-D214-1~19] 11.5 Junction and circuit fabrication process, digital applications

[23p-D214-13] Effects of Nb oxide film thickness controlled by neutral beam oxidation on superconducting resonators

〇(M2)Taichi Konno¹, Daisuke Ohori¹, Mutsuo Hidaka³, Shuichi Noda³, Kazuhiko Endo³, Hiroto Mukai^4,5, Akiyoshi Tomonaga^4,5, Jaw Shen Tsai^4,5, Seiji Samukawa^1,2 (1.IFS, Tohoku Univ., 2.AIMR, Tohoku Univ., 3.AIST, 4.TUS, 5.RQC, RIKEN)

Keywords:superconducting resonator, Nb oxide film, neutral beam process

超伝導量子コンピュータにおいて情報の伝達を行うNb超伝導共振器の性能向上が要求されている。Nb酸化層には絶縁体のNb₂O₅と金属的な性質を有するサブオキサイドがあり、サブオキサイドはNb超伝導共振器の損失を増加させ、Q値の低下につながっていることが示唆されている。本研究では、SF₆中性粒子ビーム(NB)を用いた低欠陥加工を行った試料に対して、表面酸化膜厚をNB酸化によって制御し、高いQ値が得られるNb表面酸化条件を検討した。