[23p-D215-1~16] 11.1 基礎物性

[23p-D215-8] 無限層銅酸化物(Ca_0.85Sr_0.15)_1-xLa_xCuO₂薄膜におけるアニール効果と電子状態

〇香川 陸¹、パク サンウン¹、岡部 博孝²、中村 惇平²、桑原 英樹¹、門野 良典²、足立 匡¹ (1.上智大理工、2.KEK物構研)

キーワード：無限層銅酸化物、パルスレーザー堆積法、ノンドープ超伝導

無限層銅酸化物の電子状態を明らかにするために、常圧合成が可能な無限層の(Ca_0.85Sr_0.15)_1-xLa_xCuO₂薄膜をPulsed Laser Deposition(PLD)法を用いてLSAT基板上に作製し、ポストアニールによる電子状態の変化を調べた。x = 0のAs-grown薄膜では過剰酸素はほとんど存在せず、面内酸素が欠損している可能性がある。一方、x = 0.10では還元により電気抵抗率が二桁減少したことから、Laを置換したAs-grown薄膜には過剰酸素が混入しており、還元により除去された可能性が高い。