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△ [23p-E205-12] Geベースオールエピタキシャル単結晶横型短チャネルスピンバルブ素子における大きな磁気抵抗効果の観測
キーワード:スピントロニクス、スピンバルブ
本研究では、スピンMOSFETの実現に向けて、磁気抵抗比(MR比)を向上させることを目的として、Co/Fe/MgO/Ge:B/Ge(001) 基板からなるオールエピタキシャルヘテロ構造に対してチャネル長68 nmのスピンバルブ素子構造を作製した。3 Kにおいて、最大0.55 %のMR比が得られた。これは拡散伝導を仮定した理論から予測される値のおよそ1000倍の値となっており、チャネル長を68 nmにまで微細化することにより、MR比を大幅に向上させることができることが明らかになった。