[23p-P06-1~16] 6.4 Thin films and New materials

[23p-P06-14] RT atomic layer deposition of SiO₂ and aluminum-silicate multiple layers and its application for ion sorption

〇Takeru Saito¹, Kentaro Saito^1,2, Masanori Miura³, Kensaku Kanomata³, Fumihiko Hirose¹ (1.Yamagata Univ., 2.JSPS Research Fellow, 3.ROEL Yamagata Univ.)

Keywords:atomic layer deposition, aluminum-silicate, ion sorption

我々は室温原子層堆積法を用いた、SiO₂/アルミニウムシリケート周期酸化膜の成膜プロセスを開発した。形成した膜は、アルミニウムシリケート塩であるゼオライト鉱が持つ陽イオンを選択して吸着する特性を示した。周期酸化膜を成膜したSi基板をCsCl溶液に浸漬させると、陽イオンであるCsイオンだけを吸着した。この技術は、放射性汚染水の浄化膜としての応用が期待できる。