[23p-P06-1~16] 6.4 薄膜新材料

[23p-P06-14] 室温原子層堆積法を用いたSiO₂ / アルミニウムシリケート周期酸化膜の形成とイオン吸着性評価

〇齋藤 尊¹、齋藤 健太郎^1,2、三浦 正範³、鹿又 健作³、廣瀬 文彦¹ (1.山形大院理工、2.学振特別研究員、3.山形大ROEL)

キーワード：原子層堆積、アルミニウムシリケート、イオン吸着

我々は室温原子層堆積法を用いた、SiO₂/アルミニウムシリケート周期酸化膜の成膜プロセスを開発した。形成した膜は、アルミニウムシリケート塩であるゼオライト鉱が持つ陽イオンを選択して吸着する特性を示した。周期酸化膜を成膜したSi基板をCsCl溶液に浸漬させると、陽イオンであるCsイオンだけを吸着した。この技術は、放射性汚染水の浄化膜としての応用が期待できる。