2022年第69回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

CS コードシェアセッション » 【CS.7】 8.3 プラズマナノテクノロジー、9.2 ナノ粒子・ナノワイヤ・ナノシート、13.6 ナノ構造・量子現象・ナノ量子デバイス、15.3 III-V族エピタキシャル結晶・エピタキシーの基礎のコードシェアセッション

[24a-D316-1~9] CS.7 8.3 プラズマナノテクノロジー、9.2 ナノ粒子・ナノワイヤ・ナノシート、13.6 ナノ構造・量子現象・ナノ量子デバイス、15.3 III-V族エピタキシャル結晶・エピタキシーの基礎のコードシェアセッション

2022年3月24日(木) 09:00 〜 11:30 D316 (D316)

加納 伸也(産総研)、長谷川 尊之(大阪工大)

10:45 〜 11:00

[24a-D316-7] 金ナノ粒子プラズモンによるシリコンのラジカル酸化

〇北嶋 武1、渡邉 一叶1、中野 俊樹1 (1.防大電気)

キーワード:プラズマ、プラズモン、金ナノ粒子

金ナノ粒子プラズモンを活用した触媒反応が近年活用されている。我々は金ナノ粒子から供給されるホットエレクトロンをプラズマ表面反応へ応用し、良質な極薄膜の室温形成への活用を図ってきた。 今回は極薄シリコン酸化膜の形成を目的に、プラズモン励起用の赤外光とプラズマVUV光の作用に注目し、ラジカル酸化を促進する局所加熱効果を発見したので報告する