[24a-E101-1~7] 7.1 X-ray technologies

[24a-E101-6] Interferometric Wavefront Measurement on Three-Mirror Objective for EUV Microscopy (2)

〇Yusuke Tsukui¹, Shuntaro Waki¹, Jun Chen¹, Mitsunori Toyoda¹ (1.Tokyo Polytechnic Univ.)

Keywords:EUV

我々は、EUV顕微対物ミラーで生じる波面収差を0.1nmオーダーの精度で測定可能な点回折干渉計の開発を行っている。干渉計で十分な光量を得るには、参照光と検査光が被検ミラーの射出瞳中心を通過すると同時に、そのビーム径が射出瞳径と一致する必要がある。これらの要件を満たす光学設計を光学CAD(OpTaliX)によって行い、設置要件を満足させる照明光学系を試作した。本講演では、それらの結果について報告する。