The 69th JSAP Spring Meeting 2022

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Oral presentation

15 Crystal Engineering » 15.4 III-V-group nitride crystals

[24a-E202-1~10] 15.4 III-V-group nitride crystals

Thu. Mar 24, 2022 9:15 AM - 12:00 PM E202 (E202)

Narihito Okada(Yamaguchi Univ.), Atsushi Tanaka(Nagoya Univ.)

11:45 AM - 12:00 PM

[24a-E202-10] An Ab initio-based approach for formation of pyramidal inversion domain boundaries in nitride semiconductors

〇(M2)Katsuhide Niki1, Toru Akiyama1, Tomonori Ito1 (1.Mie Univ.)

Keywords:AlN, Inversion domain boundary, Ab initio

GaN等の窒化物半導体のMgドーピングにおいて、Mg濃度を2×1019cm-3以上まで増加させるとピラミッド型インバージョンドメイン(PID)と呼ばれる欠陥が形成されると報告されている。また、Mg濃度を増加させると正孔濃度が減少すると観測されているが、PID形成とMg濃度およびキャリア濃度との関係性については明らかにされていない。本研究では、GaNおよびAlNにおけるPID形成エネルギーを算出し、PID形成とMg濃度およびキャリア濃度との関係性を検討する。