[24a-F307-1~8] 6.4 Thin films and New materials

[24a-F307-3] Soft X-ray emission spectroscopy analysis of amorphous carbon films formed by GCIB-assisted deposition

Reimi Miyamoto¹, Akio Nishiyama², Ryota Yoshikawa², Junji Taguchi², 〇Keiji Komatsu¹, Nobuo Saito¹, Hidetoshi Saitoh¹ (1.Nagaoka Univ. Tech., 2.Nomura Plating Co., Ltd.)

Keywords:GCIB-assisted deposition, amorphous carbon films, Soft X-ray emission spectroscopy analysis

ガスクラスターイオンビーム(GCIB)援用蒸着法は，基板上に堆積させた蒸着粒子にガスクラスターイオンビームを照射することで薄膜を合成する手法である ．本手法では，製膜時にガスクラスターイオン加速電圧とガスクラスター源供給量を変更することが可能である．本研究では，アモルファス炭素膜をGCIB援用蒸着法によりSi基板上に堆積した.ガスクラスターイオン加速電圧とガスクラスター源供給量が膜中の炭素の結合状態にどのような変化をもたらすかを，原子が有する価電子のエネルギー状態に関する情報を得る分析手法である軟X線発光分光分析により明らかにした．