[24p-D114-1~11] 8.3 プラズマナノテクノロジー

[24p-D114-10] プラズマCVD法を用いたa-C:H薄膜製膜特性に対するガス圧力・基板位置の効果

〇(B)小野 晋次郎¹、吉川 大智¹、黄 成和¹、奥村 賢直¹、鎌滝 晋礼¹、山下 尚人¹、板垣 奈穂¹、古閑 一憲^1,2、白谷 正治¹、呉 準席³、鷹林 将⁴、中谷 達行⁵ (1.九州大学、2.自然科学研究機構、3.大阪市立大学、4.有明高専、5.岡山理科大学)

キーワード：水素化アモルファスカーボン、カーボンナノ粒子